多功能电阻+电子束蒸发设备

适用于常规低熔点金属的蒸镀，例：金、银、铜、铝、铬、铂、锌、硅等，

也适用于蒸镀难熔金属和非金属材料，例：SiO2、AL2O3、MO、Ti、Zr、V、 Nb等；

可应用于制备光学薄膜、导电薄膜，半导体薄膜等；

可根据用户需求配备不同规格e型电子枪蒸发源和电阻蒸发源。

1：设备型号：BC-EVP1-600

技术参数（以下参数可根据用户需求定制）

真空室结构：立式圆柱形前开门，后置真空抽气机组。

真空室尺寸：内部尺寸600㎜×750㎜。

真空室材质：全部采用不锈钢材料焊接。

真空室加热：室内温度≤500℃

旋转基片台： 伞型基片架

控制电源：蒸发电源,偏压电源

控制方式:   PLC全自动和半自动控制模式

占地面积：  长3100㎜×宽2200㎜×高2600㎜

总功率KW： 380V  30KW

2：设备型号：BCEVP2-600

技术参数（以下参数可根据用户需求定制）

    真空室结构：立式圆柱形前开门，后置真空抽气机组。

真空室尺寸：内部尺寸600㎜×750㎜。

真空室材质：全部采用不锈钢材料焊接。

真空室加热：室内温度≤500℃

旋转基片台：电子枪旋转蒸发台

控制电源：电子枪电源,偏压电源

控制方式:   PLC全自动和半自动控制模式

占地面积：  长3100㎜×宽2200㎜×高2600㎜

总功率KW： 380V  30KW

3：设备型号：BCEVP3-600

技术参数（以下参数可根据用户需求定制）

设备名称：多功能电子束＋电阻蒸发设备

真空室结构：立式圆柱形前开门，后置真空抽气机组。

真空室尺寸：内部尺寸600㎜×750㎜。

真空室材质：全部采用不锈钢材料焊接。

真空室加热：室内温度≤500℃

旋转基片台：电子枪旋转蒸发台 ＋电组蒸发舟

控制电源：电子枪电源,蒸发电源,偏压电源

控制方式:   PLC全自动和半自动控制模式

占地面积：  长3100㎜×宽2200㎜×高2600㎜

总功率KW： 380V  40KW